圓腔式氧電漿機(Oxygen Plasma)

服務項目:清洗基板,表面改質

廠牌:Harrick Plasma

型號:PDC-001

分析原理:

電漿作用包含了紫外線,中性粒子,活化粒子, 電子及離子的反應。這些具能量的粒子能引發許多特殊的化學與物理的反應,進行清潔及改變材料表面以達到特殊的功能及效果。例如在電漿蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層 (Plasma Sheath) 加速後轟擊矽晶圓,使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速 與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。電漿已廣泛應用於各種領域,包含半導體積體電路製造,半導體封裝,手術刀具的殺菌等。

收費標準

服務項目 院內單位 院外單位
醫工奈米所 院內計畫 外接專案計畫 學術單位 產業及其他機構
陪同操作 1,500/小時 1,800/小時 1,800/小時 1,800/小時 3,000/小時
自行操作 200/小時 250/小時 250/小時 400/小時 650/小時
教育訓練 1,500/小時 1,800/小時 1,800/小時 1,800/小時 3,000/小時
註:
1.每個操作時段最低收費時數1小時(未達1小時,以1小時計算)。
2.教育訓練每次需1小時,教育訓練後須經過至少1次陪同上機進行認證,通過後可取得自行操作使用權限。
3.陪同操作若實驗延宕超過預約時間需補足超過之時數(未達1小時,以1小時計算)。

儀器操作人

何誠堃;分機37143