圓腔式氧電漿機(Oxygen Plasma)

服務項目:清洗基板,表面改質

廠牌:Harrick Plasma

型號:PDC-001

分析原理:

電漿作用包含了紫外線、中性粒子、活化粒子、電子及離子的反應。這些具能量的粒子能引發許多特殊的化學與物理的反應,進行清潔及改變材料表面以達到特殊的功能及效果。例如在電漿蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速後轟擊矽晶圓,使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。電漿已廣泛應用於各種領域,包含半導體積體電路製造、半導體封裝、手術刀具的殺菌等。

收費標準

服務項目 院內單位 院外單位
院內計畫 外接專案計畫 學術單位 產業及其他機構
陪同操作 1,800/小時 1,800/小時 1,800/小時 3,000/小時
自行操作 250/小時 250/小時 400/小時 650/小時
教育訓練 1,800/小時 1,800/小時 1,800/小時 3,000/小時

服務項目 院內單位
院內計畫 外接專案計畫
陪同操作 1,800/小時 1,800/小時
自行操作 250/小時 250/小時
教育訓練 1,800/小時 1,800/小時

服務項目 院外單位
學術單位 產業及其他機構
陪同操作 1,800/小時 3,000/小時
自行操作 400/小時 650/小時
教育訓練 1,800/小時 3,000/小時
註1:每個操作時段最低收費時數1小時(未達1小時,以1小時計算)。
註2:教育訓練每次需1小時,教育訓練後須經過至少1次陪同上機進行認證,通過後可取得自行操作使用權限。
註3:陪同操作若實驗延宕超過預約時間需補足超過之時數(未達1小時,以1小時計算)。

技術服務操作人

何誠堃,分機37143

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