服務項目:微結構製造

特色:
本設備環境為1000等級無塵室(Class 1000 Clean Room),並配有光微影技術(photolithography)微製造所需之相關設備供使用。
收費標準
服務項目 | 院內單位 | 院外單位 | ||
---|---|---|---|---|
院內計畫 | 外接專案計畫 | 學術單位 | 產業及其他機構 | |
陪同操作 | 3,500/小時 | 3,500/小時 | 6,000/小時 | |
自行操作 | 500/小時 | 600/小時 | 1,000/小時 | |
4″晶圓 | 600/片 | |||
光阻液(含顯影液) | 400/次 | |||
教育訓練或使用者認證 | 8,000/小時 | 8,000/小時 | 12,000/小時 | |
SU8製圖評估 | 1000/次 | |||
模仁高度量測 | 50/點 | |||
模仁表面處理 | 2,000/片 | |||
SU8矽晶片模仁代工 | 視允收標準報價 |
服務項目 | 院內單位 | |
---|---|---|
院內計畫 | 外接專案計畫 | |
陪同操作 | 3,500/小時 | |
自行操作 | 500/小時 | |
4″晶圓 | 600/片 | |
光阻液(含顯影液) | 400/次 | |
教育訓練或使用者認證 | 8,000/小時 | |
SU8製圖評估 | 1000/次 | |
模仁高度量測 | 50/點 | |
模仁表面處理 | 2,000/片 | |
SU8矽晶片模仁代工 | 視允收標準報價 |
服務項目 | 院外單位 | |
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學術單位 | 產業及其他機構 | |
陪同操作 | 3,500/小時 | 6,000/小時 |
自行操作 | 600/小時 | 1,000/小時 |
4″晶圓 | 600/片 | |
光阻液(含顯影液) | 400/次 | |
教育訓練或使用者認證 | 8,000/小時 | 12,000/小時 |
SU8製圖評估 | 1000/次 | |
模仁高度量測 | 50/點 | |
模仁表面處理 | 2,000/片 | |
SU8矽晶片模仁代工 | 視允收標準報價 |
註1:使用此設備需先至國家衛生研究院醫工奈米貴重儀器服務系統完成線上預約,繳費完成後,持單據向技術服務操作人報到,方可進入使用。
註2:每個操作時段最低收費時數1小時(未達1小時,以1小時計算)。
註3:光阻液塗佈每次以4公克為上限,8公克計算為2次塗佈,12公克計算為3次塗佈,以此類推(未達4公克,以4公克計算)。
註4:教育訓練或使用者認證每次需2小時,訓練製作特殊或多層結構者每次需4小時。
註5:經教育訓練並且通過管理人認證後之使用者,可取得自行操作使用權限。
註6:未取得自行使用權限之使用者必須預約由管理人陪同操作。若實驗延宕超過預約時間需補足超過之時數(未達1小時,以1小時計算)。
註7:委託操作請洽技術服務操作人評估所需時間及耗材使用量。單層結構最大高度誤差為塗佈高度的25%,特殊需求或製作多層結構需額外增加費用。
註8:預約完成後須依日期與登記時數使用,欲取消當次預約需12小時前通知技術服務操作人,更改使用時段。
註9:無塵室之設備(曝光機,塗佈機,表面輪廓儀)使用完畢後須登記使用情況。
註10:未依以上規定使用者,將取消個人使用權限(欲自行操作者需重新認證),未取得使用權限者,將取消其預約資格。
技術服務操作人
葉鵑鳳、Didem,分機37143