服務項目：微結構製造
特色
- 本設備環境為1000等級無塵室（Class 1000 Clean Room），並配有光微影技術（photolithography） 微製造所需之相關設備可供使用。
收費標準
| 服務項目 | 院內單位 | 院外單位 | |||
|---|---|---|---|---|---|
| 醫工奈米所 | 院內計畫 | 外接專案計畫 | 學術單位 | 產業及其他機構 | |
| 陪同操作 | 2,500/小時 | 3,500/小時 | 3,500/小時 | 3,500/小時 | 6,000/小時 |
| 自行操作 | 400/小時 | 500/小時 | 500/小時 | 600/小時 | 1,000/小時 |
| 4″晶圓 | 600/片 | 600/片 | 600/片 | 600/片 | 600/片 |
| 光阻液 (含顯影液) | 400/次 | 400/次 | 400/次 | 400/次 | 400/次 |
| 教育訓練或使用者認證 | 6,500/小時 | 8,000/小時 | 8,000/小時 | 8,000/小時 | 12,000/小時 |
註：
1. 使用此設備需先至國家衛生研究院_醫工奈米貴重儀器服務系統完成線上預約，繳費完成後，持單據向管理人報到，方可進入使用。
2. 每個操作時段最低收費時數1小時(未達1小時，以1小時計算)。
3. 光阻液塗佈每次以4公克為上限，8公克計算為2次塗佈，12公克計算為3次塗佈以此類推(未達4公克，以4公克計算)。
4. 教育訓練或使用者認證每次需2小時，訓練製作特殊或多層結構者每次需4小時。
5. 經教育訓練並且通過管理人認證後之使用者，可取得自行操作使用權限。
6. 未取得自行使用權限之使用者必須預約由管理人陪同操作。若實驗延宕超過預約時間需補足超過之時數(未達1小時，以1小時計算)。
7. 委託操作請洽管理人評估所需時間及耗材使用量。單層結構最大高度誤差為塗佈高度的25%，特殊需求或製作多層結構需額外增加費用。
8. 預約完成後須依日期與登記時數使用，欲取消當次預約需12小時前通知管理員，更改使用時段。
9. 無塵室之設備(曝光機，塗佈機，表面輪廓儀)使用完畢後須登記使用情況。
10. 未依以上規定使用者，將取消個人使用權限(欲自行操作者需重新認證)，未取得使用權限者，將取消其預約資格。
1. 使用此設備需先至國家衛生研究院_醫工奈米貴重儀器服務系統完成線上預約，繳費完成後，持單據向管理人報到，方可進入使用。
2. 每個操作時段最低收費時數1小時(未達1小時，以1小時計算)。
3. 光阻液塗佈每次以4公克為上限，8公克計算為2次塗佈，12公克計算為3次塗佈以此類推(未達4公克，以4公克計算)。
4. 教育訓練或使用者認證每次需2小時，訓練製作特殊或多層結構者每次需4小時。
5. 經教育訓練並且通過管理人認證後之使用者，可取得自行操作使用權限。
6. 未取得自行使用權限之使用者必須預約由管理人陪同操作。若實驗延宕超過預約時間需補足超過之時數(未達1小時，以1小時計算)。
7. 委託操作請洽管理人評估所需時間及耗材使用量。單層結構最大高度誤差為塗佈高度的25%，特殊需求或製作多層結構需額外增加費用。
8. 預約完成後須依日期與登記時數使用，欲取消當次預約需12小時前通知管理員，更改使用時段。
9. 無塵室之設備(曝光機，塗佈機，表面輪廓儀)使用完畢後須登記使用情況。
10. 未依以上規定使用者，將取消個人使用權限(欲自行操作者需重新認證)，未取得使用權限者，將取消其預約資格。
管理者
何誠堃，分機37143