櫃型X光照射系統

分析原理：

櫃型X光機為非同位素之照射器，且沒有劑量率隨時間變化的疑慮，有利於實驗操作與進行。此外，X光機可依不同實驗需求，調整輸出之kV與mA，而得到多種不同的劑量率或縮短實驗時間。另外，X光照射系統可應用於放射性實驗，包括：建立不同細胞株之存活曲線、幹細胞研究、建立抗輻射之細胞株及評估非細胞之受測材料樣品照射後的變化等，應用範圍相當廣泛。

特色：

提供具90/160kV及3/5mA的X-ray照射。